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x射線鍍層測(cè)厚儀探討鍍層測(cè)厚是怎樣的一個(gè)過(guò)程
更新時(shí)間:2020-03-19   點(diǎn)擊次數(shù):1464次
   為使產(chǎn)品化,我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中,對(duì)鍍層厚度有了明確要求。x射線鍍層測(cè)厚儀一款快速、無(wú)損、準(zhǔn)確檢測(cè)鍍層厚度儀器。可以用于檢測(cè)電子電鍍,化學(xué)鍍層厚度,如鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鈀...鍍層厚度。
  X射線是電磁波譜中的某特定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的電磁波,其特性通常用能量(單位:千電子伏特,keV)和波長(zhǎng)(單位:鈉米,nm)描述。X射線熒光是原子內(nèi)產(chǎn)生變化所致的現(xiàn)象。一個(gè)穩(wěn)定的原子結(jié)構(gòu)由原子核及核外電子組成。這些核外電子圍繞著原子核按不同軌道運(yùn)轉(zhuǎn),它們按不同的能量分布在不同的電子殼層:分布在同一殼層的電子具有相同的能量。
  當(dāng)具有高能量的入射(一次)X射線與原子發(fā)生碰撞時(shí),會(huì)打破原子結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性。處于低能量電子殼層(如:K層)的電子更容易被激發(fā)而從原子中逐放出來(lái),電子的逐放會(huì)導(dǎo)致該電子殼層出現(xiàn)相應(yīng)的電子空位。這時(shí)處于高能量電子殼層的電子(如:L層)會(huì)躍遷到該低能量電子殼層來(lái)補(bǔ)充相應(yīng)的電子空位。由于不同電子殼層之間存在著能量差距,這些能量上的差以二次X射線的形式釋放出來(lái),不同的元素所釋放出來(lái)的二次X射線具有特定的能量特性。儀器通過(guò)探測(cè)不同的元素所釋放出來(lái)的二次X射線具有特定的能量特性,進(jìn)行分析計(jì)算得到各鍍層厚度,這一個(gè)過(guò)程就是我們所說(shuō)的X射線鍍層測(cè)厚儀。
 
  x射線鍍層測(cè)厚儀是將X射線照射在樣品上的。強(qiáng)度的衰減將主要是由于材料對(duì)樣品的吸收,以及從樣品中反射的第二X射線的強(qiáng)度。測(cè)量了涂層等金屬膜的厚度。因?yàn)橛袠悠泛蚗射線輻照對(duì)樣品無(wú)接觸只有45-75w,所以不會(huì)造成樣品損傷。同時(shí),測(cè)量也可以在10到幾分鐘內(nèi)完成。
  X射線鍍層測(cè)厚儀的特征:
  1、可測(cè)量電鍍、蒸鍍、離子鍍等各種金屬鍍層的厚度。
  2、CCD攝像機(jī)可以觀察和選擇小面積測(cè)量涂層的厚度,避免直接接觸或破壞被測(cè)物體。
  3、擁有鍍層厚度測(cè)量和成分分析等250多個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品。
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